陽極氧化膜的結構 陽極氧化膜由兩層組成, 外層稱為多孔層,較厚、疏松多孔、電阻低。 內層稱為阻擋層(亦稱活性層),較薄、致密、電阻高。 多孔的外層是在具有介電性質的致密的內層上成長起來的。 陽極氧化膜的性質與應用 陽極氧化膜具有較高的硬度和耐磨性、極強的附著能力、較強的吸附能力、良好的抗蝕性和電絕緣性及高的熱絕緣性。由于這些特異的性能, 使之在各方面都獲得了廣泛的應用。
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目前,應用廣泛的是鋁材的陽極氧化處理。由于鋁的氧化膜結構細致,吸附性佳,不易脫落,故通過陽極氧化工藝鍍覆一層細致的氧化膜以保護其不會持續氧化。鋁陽極氧化工藝有很多種,包括普通陽極氧化、硬質陽極氧化、超低溫硬質陽極氧化等。
硬質陽極氧化與普通陽極氧化的區別:
操作條件方面的差異:?
1、溫度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加劑的可以到30℃,溫度過高易出現粉末或裂紋;硬質氧化一般在5℃以下,相對來說溫度越低硬質越高。?
2、濃度差異:普通氧化一般20%左右;硬質氧化一般在15%或更低。?
3、電流/電壓差異:普通氧化電流密度一般:1-1.5A/dm2;而硬質氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化電壓≤18V,硬質氧化有時高達120V。?
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