陽極氧化膜由兩層組成,多孔的厚的外層是在具有介電性質的致密的內層上上成長起來的,后者稱為阻擋層(也稱活性層)。用電子顯微鏡觀察研究,膜層的縱橫面幾乎全都呈現與金屬表面垂直的管狀孔,它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是致密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體,稱為晶胞,整個膜層是又無數個這樣的晶胞組成。阻擋層是又無水的氧化鋁所組成,薄而致密,具有高的硬度和阻止電流通過的作用。阻擋層厚約0.03-0.05μm,為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層主要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所組成,此外還含有電解液的陽離子。當電解液為硫酸時,膜層中硫酸鹽含量在正常情況下為13%-17%。氧化膜的大部分優良特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決定的,它們都與陽極氧化條件密切相關。表面氧化加工廠
硬質陽極氧化的膜厚:普通陽極氧化的膜厚,通常在25μm-150μm之間,大部分硬質陽極氧化膜的厚度為50μm-80μm;另外,還有號稱能做到200μm以上的超厚膜硬質陽極氧化,悠君未做過,不敢確定;
還需要提一下另外一個工藝——導電氧化,別名化學氧化,它不需要通電,是純化學反應,而陽極氧化(Anodizing)需要在高壓電下進行,是一種電化學反應。
導電氧化施工時間通常只有幾十秒,所以膜層很薄,厚約0.5-4μm(陽極氧化的膜厚:5-30μm;硬質陽極氧化膜厚:25-150μm),但是它可以導電。一般用來幫助鋁合金防止生銹,同時起到控制電阻的作用,常用于電器元件。
表面氧化加工廠
陽極氧化電壓決定了陽極氧化膜的結構,也就是決定了氧化膜的性能。拋光氧化加工和純鋁拋光氧化雖然看起來相似,但本質上兩者是不同的,因為在亮度方面,后者要比前者高得多。此外,原材料的組成也不同。至于拋光和氧化,拋光的主要目的是提高產品表面的光滑度和手感。
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陽極氧化加工膜結構、性質:
陽極氧化加工由兩層組成,多孔的厚的外層是在具有介電性質的致密的內層上上成長起來的,后者稱為阻擋層(也稱活性層)。用電子顯微鏡觀察研究,膜層的縱橫面幾乎全都呈現與金屬表面垂直的管狀孔,它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是致密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體,稱為晶胞,整個膜層是又無數個這樣的晶胞組成。
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